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Eagle XV 真空腔內(nèi)X射線相機

發(fā)布時間:2022-11-19 09:15:35

英國Raptor Photonics公司的Eagle XV相機是專門為真空特殊工作環(huán)境設(shè)計的,可以直接放置在真空腔室內(nèi)使用。相機采用了Teledyne e2v公司的背照式CCD芯片,百分之100的填充因子,可直接探測從真空紫外(極紫外)到軟X-ray波段(12eV-20keV能量范圍)。

英國Raptor Photonics公司的Eagle XV真空腔內(nèi)X射線相機是專門為真空特殊工作環(huán)境設(shè)計的,可以直接放置在真空腔室內(nèi)使用。相機采用了Teledyne e2v公司的背照式CCD芯片,百分之100的填充因子,可直接探測從真空紫外(極紫外)到軟X-ray波段(12eV-20keV能量范圍)。

主要特性

·      相機放置在真空腔室內(nèi)使用

·       來自Teledyne e2v的背照式CCD芯片

·       可直接探測能量范圍12eV-20keV

·       制冷溫度-80℃,暗電流<0.0005e - /p/s

·       提供完整真空饋通的解決方案

·       真空度兼容性10 -5 至10 -8 mbar

典型應(yīng)用

?x射線成像  ?x射線顯微鏡 ?薄膜和納米纖維 ?x射線等離子體診斷 ?全息和光刻


>>X-ray衍射(XRD)

X-ray衍射是一種研究物質(zhì)特性的技術(shù),如大分子、晶體、粉末、 聚合物和纖維。 當(dāng)X-ray穿過物質(zhì)時,它們與原子中的電子相互作用,并分散開 來。如果原子是在平面上組織的(即物質(zhì)是結(jié)晶的),并且原子之間 的距離與X-ray的波長大小相同,則會發(fā)生構(gòu)造性和破壞性的干涉, 并形成衍射圖案。根據(jù)所研究物質(zhì)的種類,可以使用單色X-ray、粉 紅束(窄帶)X-ray或白束(寬帶)X-ray。


>>EUV紫外光刻

半導(dǎo)體工業(yè)使用波長從 365nm 到 248nm 到 193/157nm 的光 源,其特征尺寸小于100nm,但已達到光刻技術(shù)的界限。認識到這 一限制,該行業(yè)在過去幾年中一直在尋找一種潛在的后繼技術(shù),以生 產(chǎn)小于100nm的特性。半導(dǎo)體工業(yè)研究的下一代光刻技術(shù)包括超視 距光刻、X-ray光刻、離子束投影光刻和電子束投影光刻。盡管EUV 光刻技術(shù)也有其挑戰(zhàn),但它經(jīng)常被使用,因為它保留了上述光刻技術(shù) (波長13.5nm)的外觀和感覺,以及使用了相同的基本設(shè)計工具。 因此,直接探測X-ray相機為光刻系統(tǒng)工作中提供了好的診斷 和監(jiān)控手段。


>>XUV、軟X射線及EUV光譜

美國McPherson Instruments公司的251MX平場光譜儀,采用新的120g/mm光柵和EA4710XO-BN相機,可以輕松實現(xiàn)XUV、軟X射線及EUV光譜的測量。


Eagle XV – In Vacuum X-Ray

In Vacuum High Energy CCDs with a range of custom options

Introducing a high energy direct X-Ray In Vacuum version one of the most sensitive CCD cameras in the World. The Eagle XV is available in a range of options including sensor resolution, sensor type, cooling and feedthrough options – including trigger, liquid, power and CameraLink. This freedom of choice offers cameras to meet your exact needs.

The EAGLE XV camera features:

·       Choice of sensors, BN-DD and BN – Select the best QE for your application

·       Active / Passive cooling down to -80°C – Minimizing noise with Raptor cooling technology

·       Compact platform for In-Vacuum operation – Ideal for OEM integration with vacuum pressure <= 10^-5 mbar

·       Full range of Accessories – Including vacuum feedthroughs, cables, tubing etc


Optional Accessory

Part Number

Notes

Power Feedthrough

RPL-PFC

19-way hermetic bulkhead feedthrough; 3m, 19-way, in vacuum cable

CameraLink Feedthrough

RPL-CLFC

MDR-MDR Feedthru Plate; Cameralink Cable 3m MDR to MDR

KF40 Liquid Feedthrough

RPL-DN40KF-WFC

KF40 flange with 2-off ?" pipes, terminated with swagelok fittings

2.75" CF Liquid Feedthrough

RPL-DN40CF-WFC

2.75" CF flange with 2-off ?" pipes, terminated with swagelok fittings

KF40 Trigger Feedthrough 2 SMAs

RPL-DN40KF-TFC

KF40 flange with 2-off female SMA to SMA feedthroughs;

2.75" CF Trigger Feedthrough

RPL-DN40CF-TFC

2.75" CF flange with 2-off female SMA to SMA feedthroughs;

Air Side Water Tubing

RPL-WTUBE-XV

Includes tubing and connectors. Stainless Steel Hose Connector, 1/4 in. Tube Adapter, 1/4 in; 5mm ID Flexible PVC Tubing (2m length);

EPIX EB1 frame grabber

RPL-EPIX-EB1


EPIX XCAP Std software

RPL-XCAP-STD


CameraLink Cable (2m)

RPL-CL-CBL-2M

Longer Camera Link cable available.

Mini PC with XCAP Std and frame grabber

RPL-PC-EL1


Thermoelectric Water Chiller Unit

RPL-CHILLER

Recommended coolant flow rate >0.5l/min & cooling capacity >100W @ 20°C.




產(chǎn)品參數(shù):

型號

EA4240XV-BN-CL -II

芯片類型

CCD

有效像素

2048 x 2048

像素尺寸

13.5μm × 13.5μm

光譜響應(yīng)范圍

12eV to 20keV

圖像阱深

>80ke- (100Ke- typical)

非線性

小于百分之一

暗電流@ -80?C

- 0.016 e/p/s

讀出噪聲(RMS)

10e- @ 2MHz <3.5e- @ 75kHz

積分時間

Up to 60 mins

幀頻

2MHz / 75kHz

讀出模式

Full 2D Image, Flexible Programmable Binning, ROI Selection

觸發(fā)模式

Internal / External

數(shù)據(jù)輸出格式

16 bit base Camera Link

同步方式

Trigger IN and OUT - TTL compatible

供電方式

12V DC ±0.1

總功耗

<67W (TEC ON, Steady State)

工作溫度

-20°C to +55°C

存儲溫度

-40°C to +70°C

外形尺寸

155.08mm x 140.89mm x 110.00mm

重量

<1.5Kg


典型應(yīng)用

?x射線成像  ?x射線顯微鏡 ?薄膜和納米纖維 ?x射線等離子體診斷 ?全息和光刻

>>X-ray衍射(XRD)

X-ray衍射是一種研究物質(zhì)特性的技術(shù),如大分子、晶體、粉末、 聚合物和纖維。 當(dāng)X-ray穿過物質(zhì)時,它們與原子中的電子相互作用,并分散開 來。如果原子是在平面上組織的(即物質(zhì)是結(jié)晶的),并且原子之間 的距離與X-ray的波長大小相同,則會發(fā)生構(gòu)造性和破壞性的干涉, 并形成衍射圖案。根據(jù)所研究物質(zhì)的種類,可以使用單色X-ray、粉 紅束(窄帶)X-ray或白束(寬帶)X-ray。

圖片關(guān)鍵詞

>>EUV紫外光刻

半導(dǎo)體工業(yè)使用波長從 365nm 到 248nm 到 193/157nm 的光 源,其特征尺寸小于100nm,但已達到光刻技術(shù)的界限。認識到這 一限制,該行業(yè)在過去幾年中一直在尋找一種潛在的后繼技術(shù),以生 產(chǎn)小于100nm的特性。半導(dǎo)體工業(yè)研究的下一代光刻技術(shù)包括超視 距光刻、X-ray光刻、離子束投影光刻和電子束投影光刻。盡管EUV 光刻技術(shù)也有其挑戰(zhàn),但它經(jīng)常被使用,因為它保留了上述光刻技術(shù) (波長13.5nm)的外觀和感覺,以及使用了相同的基本設(shè)計工具。 因此,直接探測X-ray相機為光刻系統(tǒng)工作中提供了好的診斷 和監(jiān)控手段。

圖片關(guān)鍵詞

>>XUV、軟X射線及EUV光譜

美國McPherson Instruments公司的251MX平場光譜儀,采用新的120g/mm光柵和EA4710XO-BN相機,可以輕松實現(xiàn)XUV、軟X射線及EUV光譜的測量。

圖片關(guān)鍵詞


Typical Uses:

  • X-ray imaging

  • X-ray microscopy

  • Thin films and nanofibers

  • X-ray plasma diagnostics

  • Holography andlithography


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